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簡(jiǎn)單三個(gè)部分內(nèi)容,告訴你你不知道的天津金相拋光機(jī)的使用技巧
- 作者:微儀管理員
- 發(fā)布時(shí)間:2022-12-21
- 點(diǎn)擊:381
①天津金相拋光機(jī)的技術(shù)基礎(chǔ)要求
拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到ZUI大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響ZUI終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。這兩個(gè)要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深,后者要求使用很細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的很好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。先是粗拋,目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有ZUI大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能?。黄浯问蔷珤仯ɑ蚍Q終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到ZUI小。(這段的描述很到位,只可惜,后面的水準(zhǔn)陡降。)
②天津金相拋光機(jī)使用技巧
拋光時(shí),試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。
天津金相拋光機(jī)濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí),由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫,潤(rùn)滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會(huì)拋傷表面。
③天津金相拋光機(jī)使用轉(zhuǎn)述控制
為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低,不要超過(guò)500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。
粗拋后磨面光滑,但黯淡無(wú)光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋消除精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。
變頻調(diào)速已被理論和實(shí)踐證明是"節(jié)能明顯,功能豐富,天津金相拋光機(jī)性能穩(wěn)定"的調(diào)速裝置。根據(jù)不同的材料,拋光時(shí)需要選擇合適的速度,得到好的效果。
為了在很短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到合適的試樣制備效果,要采用合適的設(shè)備和正確的制備方法。認(rèn)真地選用設(shè)備和輔助材料,以確保制樣的每一步都達(dá)到預(yù)定目標(biāo),并能在消除前幾步所造的劃痕和變形的同時(shí),僅產(chǎn)生很少的新劃痕和變形。